微弧氧化技术要求给您好的建议 日照微弧氧化电源

微弧氧化技术特点

1、提高材料表面硬度微弧氧化膜层为表面多孔孔径为几微米、内部致密的陶瓷层。 膜层硬度高维氏硬度可由几百至三千左右 膜层与基体为冶金结合、厚度在几微米至几百微米之间。微弧氧化技术、微弧氧化生产线

2、微弧氧化技术绝缘性好耐热性高，可承受高温使用，范围根据基材熔点温度 有-的绝缘性能，绝缘电阻膜阻>;100mω 绝缘耐压>;5000v/秒。微弧氧化电源、微弧氧化生产工艺

微弧氧化技术

      在微弧氧化过程中，化学氧化、电化学氧化、等离子体氧化同时存在，因此陶瓷层的形成过程非常复杂，至今还没有一个合理的模型能描述陶瓷层的形成。

      微弧氧化膜层与基体结合牢固，结构致密，韧性高，具有-的耐磨、耐腐蚀、耐高温冲击和电绝缘等特性。微弧氧化技术具有操作简单和易于实现膜层功能调节的特点，而且工艺不复杂，不造成环境污染，是一项全新的-型材料表面处理技术，在航空航天、机械、电子、装饰等领域具有广阔的应用前景。在微弧氧化的过程下，原来生产的氧化膜不会脱落，只有表面一部分氧化膜可能会被粉化而沉淀在溶液中，脱落的表面可以继续氧化，随着外加电压的升高，或时间的延长，微弧氧化膜厚度会不断增加，直至达到外加电压所对应的终厚度。

       微弧氧化电源设备是一种高压大电流输出的特殊电源设备，输出电压范围一般为0～600v；微弧氧化技术的内容和工艺流程微弧氧化技术主要针对对象是铝、镁、钛等轻金属以及他们的合金。输出电流的容量视加工工件的表面积而定，一般要求6～10a/dm2。电源要设置恒电压和恒电流控制装置，输出波形视工艺条件可为直流、方波、锯齿波等波形。  微弧氧化膜层性能检测仪器膜层的性能检测包含三部分院厚度表征、硬度表征、形貌表征、相成分表征和表面粗糖度表征等。