镁合金微弧氧化表面要求常用指南 日照微弧

微弧氧化技术特点

1、可处理任意大小工件

可处理任意大小工件-，- 可进行细长管可处理任何长度工件 复杂异形件如深盲孔内部 特殊材料特殊性能膜层制备等高难度研究工作。

2、高结合力

基体原位生长陶瓷膜，膜层与基底金属结合力强,陶瓷膜致密均匀。

3、可处理的材料镁、铝、钛、锆、钽、铌等及其合金材料包括含硅量较高的铝合金。

微弧氧化技术

      在微弧氧化过程中，化学氧化、电化学氧化、等离子体氧化同时存在，因此陶瓷层的形成过程非常复杂，至今还没有一个合理的模型能描述陶瓷层的形成。

      微弧氧化膜层与基体结合牢固，结构致密，韧性高，具有-的耐磨、耐腐蚀、耐高温冲击和电绝缘等特性。微弧氧化技术具有操作简单和易于实现膜层功能调节的特点，而且工艺不复杂，不造成环境污染，是一项全新的-型材料表面处理技术，在航空航天、机械、电子、装饰等领域具有广阔的应用前景。第二步：将经-步微弧氧化后的铝基工件水洗后在70g/l的na3p2o7水溶液中以1a/dm2的阳极电流氧化15min。

       微弧氧化处理后形成陶瓷层表面颜色只有黑白两色。-制约了而上釉工艺可以在金属表面涂上色彩并经过高温烧结，形成耐磨，结合力好的表面处理。附着力-，将工件加热至300℃，立即浸入冷水中，反复数次都未发现氧化膜掉落。但是普通的低温釉工艺，烧结温度-900度，铝镁金属的熔点是600多度，因此-制约了微弧氧化后处理的发展，对终端消费品外壳的客户来说，彩色是-的选择。微弧氧化电源、微弧氧化生产线、微弧氧化技术、微弧氧化设备